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LPCVD | PECVD | |
온도 | 높다 | 낮다 |
진공 | 고진공 | 고진공 |
step coverage | 높다 | 낮다 (LPCVD보다) |
depo rate | 낮다 | 높다 |
막질 | 높은 온도 -> 치밀한 박막 | LPCVD보다 나쁨 |
생산 방식 | batch type | single type (매엽식) |
장정 | 고품질 막 batch방식으로 한번에 여러장 증착 가능 |
낮은 공정온도로 여러공정에 적용 가능 대부분의 물질 증착 가능 |
단점 | 높은 온도에 견딜 수 있는 공정만 가능 | LPCVD에 비해 낮은 막 특성 공정변수의 제어가 중요 챔버 내, 기체중에서 반응이 일어나 powder 생성(오염으로 작용) |
* PECVD가 LPCVD에 비해 막질이 떨어지는 이유
낮은 온도에서는 기판 위에 도달한 radical들이 규칙적으로 재배열하는데 필요한 surface mobility를 가지지 못해, LPCVD에 비해 박막의 물성이 떨어진다
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