글쓰기 제조공정1 [TFT] LTPS 제조공정 LTPS (Low Temperature Poly Silicon) TFT 비정질 실리콘(a-Si)을 결정화 하여 crystal Silicon을 만들기 위해서는 실리콘의 용융점인 1400℃ 이상의 온도가 필요하다 그러나 유리기판(700℃)이 온도를 견디지 못하기 때문에, 레이저를 사용해서 a-Si을 poly-Si으로 만든다 (ELA 방식) 이때, 공정의 온도가 500℃ 정도로 상대적으로 낮기 때문에 Low temperatur poly silicon(LTPS)라는 이름이 붙었다 LTPS 제조공정 1. Glass 세정 2. Buffer층 증착 (PECVD) 후속 공정에서 glass 내의 불순물이 Active층(Poly-Si)으로 이동하는 것을 막아줌 3. a-Si 증착 (PECVD) 4. ELA (Excimer.. 2022. 5. 19. 이전 1 다음 반응형
