PR(Photo Resist)
빛활성제(PAC), 수지(Resin), 솔벤트로 구성된 감광성 고분자 물질
빛을 받으면 딱딱해지거나, 녹기 쉽게 변하는 특성을 이용해, 약해진 부분만 선택적으로 제거함으로써, 미세패턴을 구현하는 photo공정에서 사용
Positive PR (대부분의 공정에서 사용)
- 빛은 받은 부분의 결합이 약해짐
- 빛은 받은 부분 현상
- 높은 해상도
Negative PR
- 빛을 받은 부분의 결합이 강해짐
- 빛을 받지 않은 부분 현상
- 낮은 해상도
결합이 약해진 부분을 제거하는 현상과정에서, 현상액이 침투해 패턴이 부풀어오르는 Swelling 현상으로 미세패턴 구현이 어려움
Positive | Negative | |
해상도 | 높음 | 낮음 |
step coverage | 높음 | 낮음 |
현상액 | 수용성 | 유기용액 |
실리콘 부착력 | 보통 | 높음 |
비용 | 비쌈 | 쌈 |
반응형
'반도체 > Photo' 카테고리의 다른 글
[Photo] Photolithography 실험 (0) | 2022.05.08 |
---|
댓글